辉纳涂层HINa-Metal系列PVD金属硬质膜涂层设备采用的增强型磁控阴极弧技术，该系列设备可完成的涂层覆盖各类金属涂层如：氮化钛(TiN),氮化铝钛(TiAlN),氮化铬铝钛(TiAlCrN),氮铬铝钛(AlCrN）,氮化铬(CrN),氮碳化钛(TiCN)等等，此类薄膜可广泛用于刀具、工具、模具和有高耐磨要求的零部件。Hi-Metal系列涂层设备是一款具有良好稳定性和高度自动化程度的工业硬质膜涂层设备
| HiNa-Metal 标准设备的基本参数 |
涂层设备总体尺寸（毫米） | 2400(宽）x2400(深)x2000(高) | ||
设备功率 | 50(千瓦),380(伏)三相 | ||
压缩空气和冷却水 | 0.46~0.60兆帕，1.5立方米/每分钟 靶源冷却25°C，腔体冷却35°C | ||
真空抽气系统 | 机械选片泵1台 分子泵1台 | 200立方米/小时 2500升/秒 | 无负载系统极限真空 1.0x10-4帕 |
真空测量系统 | 低真空/电阻规/2路 高真空/离子规/1路 | ||
磁控阴极靶和电源（电源可根据客户需求自选） | 平面增强型磁控阴极弧3套 阴极弧电源3套 偏压电源1套 阴极弧靶的数量最多4个 | 靶源尺寸根据客户要求自选 直流弧电源 高压直流脉冲电源 | 靶电流<150安倍 有效工作电压25伏 有效工作电流180安倍 10千瓦，占空比0~90%，频率40千赫兹 |
工艺气体 | 独立3路，质量流量控制器MFC（可根据客户需要增加独立气路） | ||
工件转架 | 2套、带8个直径120毫米可独立转动的行星转塔，可连同被镀工件整体装卸，转速~10转分钟，转架尺寸直径520毫米，承载重量350公斤 | ||
镀膜机控制系统 | PLC控制系统+工业PC/PLC 系统具备全自动，手动和维护3种操作模式 所以所有运行参数记录于电脑之中供分析查阅 开放式软件界面，用户可自行开发工艺 | ||
涂层工艺 | 随机附送4套成熟类金刚石DLC涂层工艺和辅助工艺 | ||
